制造芯片的直線電機(jī)光刻機(jī)，為什么一直難以突破？眾所周知，制造芯片需要用到光刻技術(shù)，一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠等等一系列的工序，光刻機(jī)是其中的關(guān)鍵系統(tǒng)。

據(jù)小編直線電機(jī)了解到，很多公司可以設(shè)計(jì)開發(fā)芯片，也有很多公司可以制作晶圓，但能生產(chǎn)光刻機(jī)的公司很少。荷蘭的ASML公司就是其中之一，而這家公司幾乎壟斷了光刻機(jī)市場。2017年在半導(dǎo)體光刻設(shè)備廠中，ASML占有85 %的市場，其次是日本尼康占10.3 %，佳能占4.3 %。ASML連續(xù)16年穩(wěn)居前茅。

大家心中肯定有疑問，為什么在光刻機(jī)市場，世界上只有荷蘭ASML一家獨(dú)大呢？難道Intel、臺積電都沒有實(shí)力研究，還是其他什么原因不愿意投入研究呢？小編直線電機(jī)了解到，其實(shí)ASML是從飛利浦獨(dú)立出來的，使用的是德國機(jī)械工藝、蔡司鏡頭公司提供的光源，可以說荷蘭ASML公司背靠整個(gè)歐美的技術(shù)支撐，才得以迅速發(fā)展。光刻機(jī)投入巨大并且需要常年的技術(shù)積累。

我國也在加緊研制光刻機(jī)，據(jù)小編直線電機(jī)所知，2018年底，國我家重大科研“超分辨光刻裝備研制”項(xiàng)目通過驗(yàn)收，該光刻機(jī)由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達(dá)到22納米，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來還可用于制造10納米級別的芯片。所以更多技術(shù)不是短期投入就可以突破，從人才建設(shè)到技術(shù)積累，都需要時(shí)間。

眾所周知直線電機(jī)主要應(yīng)用之一就是光刻機(jī)，我們同茂除了在設(shè)計(jì)產(chǎn)品方面擁有優(yōu)勢外，我們同樣注重售后服務(wù)，給您提供強(qiáng)有力的技術(shù)支持，很好的為客戶提供便捷。真正的做到，做好，品質(zhì)上乘，顧客至上。