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直線電機在光刻機上的應用
文章出處：同茂電子人氣： 發(fā)布時間：2018/1/15 14:55:20
直線電機在光刻機上的應用,首先我們來看一下什么是光刻機，光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System。
一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復制”到硅片上的過程。
現(xiàn)代科技瞬息萬變，傳統(tǒng)的光刻技術已經(jīng)無法滿足集成電路生產(chǎn)的要求。 光刻工藝直接決定了大規(guī)模集成電路的特征尺寸，是大規(guī)模集成電路制造的關鍵工藝。作為光刻工藝中重要設備之一，光刻機一次次革命性的突破。
光刻機工件臺在掃描曝光過程中要求納米級的定位精度,采用長行程直線電機粗動加洛侖茲電機高精密微動補償?shù)?/span>6自由度復合運動系統(tǒng)能滿足要求。為減小微動電機的運動范圍和加速度,得提高直線電機的軌跡跟蹤精度。提出了一種開閉環(huán)D型迭代學習控制律改善永磁直線同步電動機(PMLSM)的軌跡跟蹤性能?？刂破饔扇糠纸M成:PID控制器用來提高系統(tǒng)對擾動和參數(shù)變化的魯棒性;前饋補償器可提高系統(tǒng)的實時跟蹤性能;迭代學習控制器則通過執(zhí)行重復任務來不斷向理想的控制信號逼近。實驗結(jié)果表明,這種控制方法可以有效提高系統(tǒng)的軌跡跟蹤精度。
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